Именно такие потери энтропии и приводят нас к представлению о знаменитых Iog2 и других постоянных, типа использованной мною к (напомню, что это постоянная Больцмана). Такие постоянные возникают каждый раз, когда вы пытаетесь с максимальной скоростью «пропустить» электрон с заданной энергии вдоль некоторой цепочки узлов. Предположим, что за некоторое достаточное время нам удалось обеспечить прохождение электрона вдоль цепочки. Обозначим среднюю скорость движения электрона при этом через νD. Введением нижнего индекса D я специально подчеркиваю, что эта скорость соответствует прохождению или дрейфу, а не скорости теплового движения, которое включает в себя и все смещения взад-вперед по пути следования. Поэтому характеристикой движения электрона в любой вычислительной машине выступает, конечно, эта дрейфовая скорость (а не тепловая vT, которая включает в себя «колебания» взад-вперед вдоль цепочки атомов). Потери энтропии, которые происходят при пропускании электрона со 100 %-ным рассеянием, определяются отношением реальной скорости движения электрона вдоль цепи к теоретически возможной, тепловой скорости. (Фейнман выписывает на доске коэффициент k = vD/vT.)
Перемещая электроны в проводнике, вы преодолеваете сопротивление. Потери энергии на создание электрического тока составляют порядка kT на каждом препятствии (но не на этапе вычисления), поэтому, действуя достаточно медленно, вы могли бы провести вычисления с минимальными потерями энергии, но тогда скорость вычислений будете весьма небольшой. Проблема тепловыделения компьютеров является очень важной в практическом отношении, и ее решением должно (или может?) стать проектирование и создание компьютеров с обратимыми логическими схемами.
Возможности совершенствования современных компьютеров очень велики (выше я говорил о том, что мы тратим в 1010 раз больше энергии, чем это требуется теоретически!), так что я могу лишь призвать разработчиков начать следующий этап развития, который позволит обеспечить экспоненциальный рост скорости и эффективности.
Благодарю за внимание!
AFM– atomic force microscopy
AI– artificial intelligence
ANSI– American National Standards Institute
CMOS– complementary metal oxide semiconductor
CMP– chemical mechanical planarization or chemical mechanical polishing
CNTs– carbon nanotubes
CPSC– Consumer Products Safety Commission
CRADA– Cooperative Research and Development Agreement
CVD– chemical vapor deposition
DoD– Department of Defense
DOE– Department of Energy
DPN– dip-pen nanolithography
DRAM– dynamic random access memory
IBEA– Institute for Biological Energy Alternatives
IDD– implantable drug delivery
LEDs– light-emitting diodes
MEMS– microelectromechanical systems
MMS– molecular microswitch
MOSFET– metal oxide semiconductor field effect transistor
MRI– magnetic resonance imaging
MURI– Multi-University Research Initiative
NASA– National Aeronautics and Space Administration
NBIC– nano-bio-info-cogno
NBs– nanobelts
NCN– Network for Computational Nanotechnology
NDA– nondisclosure agreement
NDC– negative differential conductance
NEMS– nanoelectromechanical systems
NER– Nanoscale Exploratory Research
NIEHS– National Institute of Environmental Health Studies
NIH– National Institutes of Health
NIL– nanoimprint lithography
NIOSH– National Institute for Occupational Safety and Health
NIRTs– Nanoscale Interdisciplinary Research Teams
NIST– National Institute of Standards and Technology
NNCO– National Nanotechnology Coordination Office
NNI– National Nanotechnology Initiative
NNIN– National Nanotechnology Infrastructure Network
NNUN– National Nanofabrication Users Network
NSE– NanoscaleScienceandEngineering
NSECs– NanoscaleScienceandEngineeringCenters
NSEE– NanoscaleScienceandEngineeringEducation
NSET– NanoscaleScience,Engineering and Technology
NSF– National Science Foundation
NSP– Nanotechnology Standards Panel
NSRCs– Nanoscale Science Research Centers
NUE– Nanotechnology Undergraduate Education
NWs– nanowires
OSHA– Occupational Safety and Health Administration
OTT– office of technology transfer
PECVD– plasma-enhanced chemical vapor deposition
ROADMs– reconfigurable optical add/drop multiplexers
SAA– Space Act Agreement
SAM– self-assembling monolayer
SBIR– Small Business Innovation Research
SEM– scanning electron microscopy
SET– single-electron transfer
SOI– silicon on insulator
SPIONs– superparamagnetic iron oxide nanoparticles
SPM– scanning probe microscopy
STM– scanning tunneling microscope
STTR– Small Business Technology Transfer
SWNTs– single-walled nanotubes
TEM– transmission electron microscopy
URETI– University Research, Engineering and Technology
Читать дальше
Конец ознакомительного отрывка
Купить книгу